特許技術

特許
発明の名称 課題
ウエハの乾燥装置及び乾燥方法  ウエハの乾燥装置において、ウエハを一様に効率良く乾燥させる。
半導体基板又は素子の洗浄方法  オゾン水を用いた半導体基板又は素子の洗浄方法において、総有機炭素量を低減させた超純水を原料や溶媒として製造した超純度オゾン水のオゾン半減期を延長して、洗浄能力と洗浄効率の向上を図った洗浄方法の提供。

hatumei

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